Događanje

Obrana završnog rada – Anđela Čivljak

06.02.2026.

10:00

— 11:00

h

_Obrana završnog rada

  • O-154

Narastanje tankih filmova silicijeva dioksida metodom depozicije atomskih slojeva potpomognute plazmom

Studentica: Anđela Čivljak

Studij: Sveučilišni prijediplomski studij Fizika, smjer Fizika

Mentorica: izv. prof. dr. sc. Iva Šarić Janković

Komentorica: doc. dr. sc. Maria Kolympadi Markovic

Naziv završnog rada na engleskom jeziku: Plasma enhanced atomic layer deposition of silicon dioxide thin films

Članovi Povjerenstva:
– izv. prof. dr. sc. Ivna Kavre Piltaver (predsjednica)
– izv. prof. dr. sc. Iva Šarić Janković (mentorica)
– izv. prof. dr. sc. Robert Peter (član)

Podijeli događanje na
Facebook
Twitter
Skip to content