Glavni izbornik

Brošura

Promotivni video

Promotivni video

Doktorski studij

2nd HAD Scientific Meeting

HRZZ projekt



ASTRO-GAMMA

Interreg projekt

NPOO projekt


POMERI

Znanstvena konferencija

LSST@Europe5

  •  

CERN Masterclass

Zbirka digitalnih sadržaja

Virtualna izložba

Studiranje u Hrvatskoj

Laboratorij za tanke filmove

Zajednički Laboratorij Fakulteta za fiziku i Centra za mikro- i nanoznanosti i tehnologije (NANORI) Sveučilišta u Rijeci



Prostorija: O-S21, O-S19




    VODITELJICA LABORATORIJA

    izv. prof. dr. sc. Iva Šarić Janković 
    e-mail: iva.saric@phy.uniri.hr

    Ured: O-118
    Tel: (051) 584  638
     Curriculum vitae (.pdf)






SURADNICI LABORATORIJA
 

 
 
 

doc. dr. sc. Ivna Kavre Piltaver

izv. prof. dr. sc. Gabriela Ambrožić 

Daria Jardas Babić



ISTRAŽIVANJA

  • Istraživanje svojstava različitih poluvodičkih ili izolatorskih filmova dobivenih tehnikom depozicijom atomskih slojeva. 
Prilikom narastanja poluvodičkih ili izolatorskih filmova tehnikama depozicije atomskih slojeva (Atomic Layer Deposition, ALD) ili depozicije atomskih slojeva potpomognute plazmom (Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition, PEALD), u matrici materijala mogu ostati različite nečistoće, npr. vodik u cinkovom oksidu ili klor u titanijevom dioksidu. Koncentracije i vrste nečistoća i točkastih defekata mogu imati ključnu ulogu u kemijskim i fizikalnim svojstvima materijala, npr. utjecati na vodljivost materijala ili njegovu kristalnu strukturu.

U našim istraživanjima proučavali smo prisutnost rezidualnog klora u tankim TiO2 filmovima narastanima ALD i PEALD tehnikama, pomoću masenog spektrometra sekundarnih iona (SIMS) i spektroskopijom fotoelektrona rendgenskim zrakama (XPS).
 

Također, istražena je mogućnost kontrole veličine zrnaca TiO2 filmova anatazne faze narastanih na različitim podlogama. Istovremeno, proučio se utjecaj temperature ALD procesa na kristaliničnost i veličinu zrnca. Morfologija dobivenih ALD filmova analizirana je pretražnim elektronskim mikroskopom (eng. Scanning Electron Microscope, SEM). 
 


Proučavali smo svojstva zaštitnih tankih Al2O3 filmova narastanih ALD i PEALD tehnikama na površini celuloze. Tanki slojevi Al2O3 filmova na površini vlaknastih celuloznih materijala učinkovito spriječavaju difuziju kisika i spontano zapaljenje celuloze pri povišenim temperaturama.
 


 
 


PUBLIKACIJE LABORATORIJA



KAPITALNA EKSPERIMENTALNA OPREMA

Uređaj za depoziciju atomskih slojeva (Atomic Layer Depostion, ALD)

Oprema je kupljena u sklopu projekta Razvoj istraživačke infrastrukture na kampusu Sveučilišta u Rijeci (RISK), koji je sufinancirala Europska unija iz Europskog fonda za regionalni razvoj.




Beneq TFS 200 ALD sistem s plazmom za PEALD i generatorom ozona

 

Opis: Uređaj za depoziciju atomskih slojeva (ALD) je tehnika  koja se koristi za depoziciju tankih anorganskih filmova s velikom preciznošću kontrole debljine.
Namjena: ALD je tehnika depozicije iz pare kojom se mogu narastati tanki filmovi na površinama različitih podloga: planarnim objektima, poroznim materijalima i kompleksnim 3D objektima. Karakterističan ALD proces se sastoji od pulsiranja najčešće dva prekursora u plinovitoj fazi koji reagiraju s površinom podloge. Ovaj proces se ponavlja sve dok se ne postigne željena debljina filma. Zbog samoograničavajuće prirode ALD kemijskih procesa moguće je narastanje uniformnih slojeva jednake debljine bez obzira na geometriju supstrata, precizno kontroliranje sastava i debljine filma. U našem ALD sistemu najčešće se sintetiziraju oksidni tanki filmovi kao što su: ZnO, Al2O3, TiO2, SiO2 i nitridi: AlN, TiN, Si3N4. 
Tehničke specifikacije: Uređaj za depoziciju tankih filmova (ALD) – sistem Beneq TFS 200
  • Raspon temperatura sinteze: 25 – 500 °C
  • Maksimalne dimenzije uzorka (obična komora): promjer 200 mm, visina 3 mm. 
  • Maksimalne dimenzije uzorka (3D komora): promjer 200 mm, visina 95 mm. 
  • Sistem kapacitivne plazme (RF od 13,6 MHz, snaga plazme do 300 W).
  • Generator ozona (ozon se može koristiti kao izvor za ALD sintezu).
  • 4 tekuća spremnika prekursora spojena na sistem. 
Godina proizvodnje: 2015.
Izvor financiranja: EFRR projekt “Razvoj istraživačke infrastrukture na Kampusu Sveučilišta u Rijeci’’.
Kontakti: doc. dr. sc. Iva Šarić (+ 385 51 584 638, iva.saric@uniri.hr)
 


OSTALA OPREMA 

Pjeskarnik LN-SBC350


Opis

  • Pištolj za pjeskarenje reguliran sa pedalom
  • Fleksibilno crijevo
  • Veliki prozor
  • Velika vrata sa oba dvije strane
  • Ciklone osigurava kontinuiranu ekstrakciju prašine i pijeska
  • Unutarnje svijetlo

Tehnički podaci

Veličina spremnika 945x605x605/380mm
Sveukupna dimenzija 1000x610x1630mm
Radni tlak 4-8 bara
Maks. radni tlak 8 bara
Dužina rukavici 630mm
Promjer rukavici 180mm
Veličina spremnika 18kg
Napon 220V, 50Hz
Kontrolna jedinica 12V

Oprema

  • 6 keramičkih mlaznica (3kom 6mm, 3 kom 7mm)
  • 2 pištolja za pjeskarenje (industrial)
  • 5 podmetaća
  • 5 zaštitine folije za unutrnje svijetlo
  • 1 rola teflona
  • Spremnik
  • Kontrolna pedala
Marka:
Lincos
Kategorija:
Uređaji za pjeskarenje
Product-SKU:
LN-SBC350
Težina:
105 kg

 

Industrijski kompresor, 100ltr, 2.2 kW, 8bara CC-10021

Tehnički podaci
 

  • Snaga 2.2kW
  • Napon 230V
  • Spremnik 100l
  • Ulazni zračni kapacitet: 320l/min
  • Dovod zraka 192l/min
  • Broj okretaja 1400 okr/min
  • Radni tlak 8 bara
  • Broj cilindara 2
  • Broj klipa 2
  • Težina 48kg
  • Dimenzije 1050X400X740mm
Marka:
Lincos
Kategorija:
Klipni kompresori
Product-SKU:
CC-10021
Težina:
48 kg

 

 

 
 
 
 
 
 
 


 
 
 
.